|
Плазменные технологии в микроэлектронике. Часть 3. Кинетика процессов реактивного ионно-плазменного травления полупроводников в галогенсодержащей плазмеПлазменные технологии в микроэлектронике. Часть 3. Кинетика процессов реактивного ионно-плазменного травления полупроводников в галогенсодержащей плазме Учебно-методическое пособие подготовлено на кафедре физики полупроводников и микроэлектроники физического факультета Воронежского государственного университета. 
Итого: 110.00руб. Купить Вы можете купить электронную версию издания «Плазменные технологии в микроэлектронике. Часть 3. Кинетика процессов реактивного ионно-плазменного травления полупроводников в галогенсодержащей плазме». После оплаты (для архивов) оно будет доступно в Личном Кабинете в разделе «Электронные издания». В случае оформления подписки, издание будет доступно по мере поступления от издателя. Формат PDF/HTML. Стоимость — от 110.00 руб. |
